新型X射線雷射示意圖。
想像一下給瞬間內發生的化學過程錄影，或者在不造成破壞的情況下給病毒分子拍照……日本的研究者已經把X射線雷射聚焦到只有幾奈米的直徑，距離這樣的應用目標近了一大步。
大阪大學（Osaka University）的研究人員和同行近期完成的一份研究，實現了直徑只有6奈米的X自由電子雷射。與以前的研究相比，這顯著提高了這些雷射儀為原子層面結構成像的可用性。
為了看到微觀結構，觀察超短的瞬間內發生的化學過程，研究人員通常採用同步加速X射線設備。而X射線自由電子雷射是另一種方法，可以在原子躍遷這樣的瞬間內為原子層面的物體成像，而且不損害粒子。這需要亮度非常高的X射線雷射，將非常快的雷射脈衝聚焦於只有奈米大小的範圍內。
「使用多層鏡面，我們把雷射束縮小到只有6奈米直徑。」這項研究的主要作者井上（Takato Inoue）說，「這還達不到原子的直徑，但是我們已經前進了一大步。」
在此之前，將X自由電子雷射要聚焦到如此小的範圍很困難，至少要面臨兩個方面的挑戰，包括製造所需的鏡面，以及如何測量雷射的直徑。
「我們把連續的X射線照射在隨機分布的金屬奈米粒子上，從而得到雷射束的特徵數據。用這種辦法測得的雷射特性，和理論計算符合度很高。」
研究人員稱，能夠精確測量雷射束的直徑之後，這種技術還有進一步發展的空間。比如，使用原子代替金屬奈米粒子，可以讓X射線自由電子雷射聚焦到1奈米的範圍。
研究人員希望能夠產生亮度超太陽百萬兆倍的雷射，用於為超快的分子過程成像，效果將超過現在最先進的同步加速器。這種技術能夠在不損害微觀粒子的情況下成像，對於蛋白分子等生物體的成像有重要作用。◇
