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厲害了…美斷供晶片,俄熊決定從頭開造光刻機

這次光刻機研發計劃,其相關研究最早能追溯到上世紀80年代。當時他們就已經在研究製造光源了。1984年,澤列諾格勒科學中心受到政府指派,開始研發同步輻射加速器。這個研究所,來頭可不小。它後來被併入大名鼎鼎的庫爾恰托夫研究所,蘇聯第一顆原子彈、第一顆氫彈、歐洲第一座原子反應堆、世界上第一作原子能發電站,都是從這個研究所走出來的。

△只能看懂一個28nm

被美國全方位晶片制裁後,俄羅斯竟然要開造先進位程光刻機了?!

是的,就是那個晶片製造中最最最核心的設備(甚至沒有之一),全球僅一家公司ASML有能力生產最先進EUV級別,一台能賣好幾億元、核心技術被美國壟斷的光刻機。

而且,這次俄羅斯的計劃,看起來有點像那麼回事——

有人、有錢、有目標。

人,項目由有著蘇聯矽谷中心之稱、以微電子專業見長的俄羅斯莫斯科電子技術學院(MIET)承接。

錢,首期投資6.7億盧布資金。

目標,挑戰當前最先進的EUV(極紫外)級別。

但即便如此,因為製造光刻機登天之難、以及俄羅斯的資源儲備,網友們對這個消息並不太信:

確定不是個玩笑?!

巧的是,就在這消息放出前一天,俄羅斯最大晶片製造商Mikron被美國制裁。更早之前,俄羅斯為數不多的其他幾家晶片廠也已經全方位被制裁。

所以現在的俄羅斯晶片,到底什麼水平?真的能有底氣搞出先進位程光刻機嗎?

無掩膜X射線光刻機?

我們先來看看計劃本身的難度如何。

據俄媒報導,俄羅斯工貿部委託MIET開發「一種無掩膜X射線光刻機」,跟日常我們提到的EUV光刻機還有點不同。

首先的不同在於光源的選擇。

一種是極紫外光線,波長在13.5nm;而X射線波長介於0.01nm到10nm之間。

按照現有的常見思路,光刻機是特定波長的光透過用來放大的掩膜,再通過透鏡的縮小,將積體電路圖精確「投影」在矽片上。

為了精確「投影」,光刻機需要實現極高的曝光解析度,以及極高的重複定位精度。

前者最有效的方式之一,就是改變光源的波長。

根據光學上的瑞利判據(Rayleigh Criterion),一個光學系統能夠分辨的尺寸正比於光的波長。

因此,理論上以及從光刻機歷來發展(波長變得越來越短)來看,X射線光刻機顯然要比EUV光刻機更好更先進。

但因為它的穿透性太強,用普通透鏡無法進行放大和縮小,因而現階段無法實現投影光刻。

當前應用更多是在於直寫光刻,這也是本次俄羅斯計劃的選擇——無掩膜。

這種方式其實很早就有了,就是直接用強雷射束將所需電路一點點刻出來。

這個效率著實有點低,要想刻出奈米級積體電路,不知要等到猴年馬月。

至於以EUV為代表的投影光刻,他們認為成本高昂和工藝複雜,僅在量產方面具有競爭力,因此只適用於英特爾、三星、台積電等這種少數的全球企業。

△帶有X射線反射係數控制的無掩模 X射線光刻安裝方案

這樣看來,無掩膜光刻本身並不難,難就難在X射線工藝以及效率的提升上。

但當前全球尚且還沒有任何一家機構能夠解決這個問題。這也是他們提出這項計劃的原因。

按照計劃,他們將完成對主要技術解決方案的驗證——基於動態掩模模型的製造和兩項控制實驗研究。

最早於今年11月開發動態掩膜的技術和模型,以及原型光刻機的技術規範和可行性研究,工藝要達到28nm及以上。

△帶有 X射線透射率控制的無掩模 X射線光刻安裝方案

除此之外,官方沒有透露該計劃的更多細節。

「是全世界都在幫荷蘭ASML」

看完了計劃本身,也就多少能理解為什麼更多人依然疑問滿滿:

俄羅斯造光刻機,這事兒到底靠譜嗎?

畢竟俄羅斯有很多高科技,總是雷聲大雨點小……

不過也有人表示,俄羅斯的黑科技點不亮,難點在於缺錢、缺工業基礎,理論方面還真的不一定落後。

這次光刻機研發計劃,其相關研究最早能追溯到上世紀80年代。當時他們就已經在研究製造光源了。

1984年,澤列諾格勒科學中心受到政府指派,開始研發同步輻射加速器。

這個研究所,來頭可不小。它後來被併入大名鼎鼎的庫爾恰托夫研究所,蘇聯第一顆原子彈、第一顆氫彈、歐洲第一座原子反應堆、世界上第一作原子能發電站,都是從這個研究所走出來的。

但好景不長,這台加速器的研究在開展4年後就暫時被中止,直到2002年才再次試運行。

現在,俄羅斯打算基於這些技術積累,圍繞這台加速器專門建立一個技術中心,並預計在2023年正式投入使用。

至於無掩膜光刻,他們一開始其實並沒有選擇這一路徑,甚至還一度與ASML平齊。

早在2010年,ASML出貨第一台預生產的EUV光刻機時,俄羅斯一個物理研究所IPM(RAS)也在開發EUV的系統及元件,以及裝置原型的搭建。

其中開發人員還提出了輻射源設計的原始解決方案,部分還應用到了ASML光刻機上。

然鵝,這個項目在布局階段就結束了。

RAS首席研究員、蘇聯國家獎獲得者、多層X射線光學系主任Salashchenko Nikolay透露了原因:

一個國家無法單獨拉動這項工作。而全世界都在幫助荷蘭(ASML在荷蘭)。

於是,他們就開始尋找其他路徑,在無掩膜式光刻機上疊代工藝就是其中一種。

之所以讓MIET承接,是因為此前MIET跟一些機構合作中,在無掩膜EUV光刻機上有過研究進展。

2002年,MIET中主要從事奈米電子器件研究的研究中心成立。

研究領域覆蓋X射線器件、微機電系統和納機電系統——這些技術都與研發光刻機密切相關。

並且已經開展了部分研究,比如「基於微聚焦X射線管列陣的軟X射線源研製,適用於10nm無掩膜光刻機」,就是其中之一。

這項研究由RAS微觀結構物理研究所的Nikolay Chkhalo教授牽頭。

他目前是該研究所的實驗室主任,發表論文200多篇,主要研究領域為X射線光學、光學干涉測量等。

綜上可見,從理論基礎這一角度來看,俄羅斯搞光刻機這事兒也不能說完全不靠譜。

不過值得一提的是,在俄媒最近的報導中也直言,光刻機計劃晚了15年。

如果這一計劃在15年前啟動,或許俄羅斯現在不會面臨如此大的微電子技術威脅了。

最大晶片製造商只能做公共交通卡晶片

值得注意的是,就在這消息大範圍傳開的前夕,美國財政部宣布凍結俄羅斯21家實體企業、13個人的在美資產。

其中一家晶片廠公司進入大家的視野。

Mikron,俄羅斯最大的晶片製造商、微電子製造商和出口商。而這也就意味著,俄羅斯晶片廠目前幾乎已被全線制裁。

因此現在宣布這項光刻機計劃,一方面是給俄羅斯國內注入一場強心劑。

另一方面,從現有的俄羅斯晶片水平來看,更有迫在眉睫之勢。

以Mikron為例,就可見一斑。

從官網給出的產品目錄中可以看到,該公司可實現最高65nm工藝,主營銀行卡、公共交通卡之類的RFID以及電源管理晶片。

還創下了不少個第一:180/90/65nm工藝第一製造商、用於身份證件的晶片模塊第一製造商、第一出口商,占俄羅斯微電子產品出口的54%。

這家公司的歷史,可以追溯到前蘇聯——上個世紀六十年的分子電子研究所(NIME)。

當時,微電子技術並在熱火朝天的發展。蘇聯國家技術委員會意識到建設微電子產業的必要性,開始大舉組織研究所和工廠。

NIME就是其中之一。

不到兩年時間(1966年),在實驗車間生產的微電路產量就達到了10萬片。

隨後在第二年,依照政府命令,Mikron工廠從研究所中脫胎出來,致力於生產積體電路。

當時諸多技術均屬於國內首創,比如砷化鎵微電路平面技術、發射極耦合邏輯的IC晶體、大規模使用的數值和模擬積體電路……

1970年,Mikron已經為各個行業製造了超350萬個微電路供應,之後還陸續用在國防、超級計算機等領域。

在整個半導體行業中,蘇聯的微電子技術在全球排名第三,僅次於美國和日本。可以說,這時候的Mikron乘著時代之風快速前進。

不過,這種勢頭很快就因為蘇聯解體戛然而止——幾乎所有的蘇聯計算機製造商都停止了營運,只有少數公司通過外國組件/技術轉讓得以倖存。

Mikron就是其中一個。

2006年,Mikron開始引入海外技術——意法半導體技術轉讓,使其具備生產180nm晶片的能力。並於2007年開始生產180nmEEPROM的積體電路。

隨即,Mikron就開始生產接觸式智慧卡的晶片模塊,很快就掌握了RFID交通卡的全流程生產,並開始為莫斯科地鐵站供應。

同年,它還開始為電信行業生產SIM卡。

或許是嘗到了甜頭,Mikron再度與意法半導體展開技術轉讓合作。

據當時《半導體國際》報導,公司有意每年更新一代工藝,計劃於2008年和2009年分別推出130nm和90nm的工藝。

不過據官網記載,Mikron僅在2009年實現了在200毫米晶圓上生產設計90nm工藝的積體電路。

在2012年才正式啟動90nm微電子產品的生產。

自此,俄羅斯成為全球第八個擁有該技術的國家。相較於西方,已經遠遠落後了。

這時候,俄政府開始意識到了微電子產業的重要性。

先是制定了一眾產業發展戰略《2013-2025年電子工業發展規劃》和《國防工業綜合體發展規劃》等,還積極採取一系列舉措,比如儘可能使用國產電子產品,開發CPU民用和軍用兩條線等。

Mikron也相應更改了路線,開始致力於自主研發180-90nm國產技術和獨特產品,並創造新技術,包括65nm-45nm水平。

2014年,美國經濟制裁(包括對敏感技術行業的打擊)讓原本脆弱的俄羅斯晶片製造雪上加霜。

即便在2015年,Mikron還勉強完成了65nm工藝的開發。

但之後就再也沒有傳來工藝製程疊代的音訊。

如今從規模上看,Mikron業務輻射全球,作為俄羅斯最大晶片製造廠確實不假。

不過能做的產品,早已定型——

運輸及門禁RFID、物聯網數據保護微控制器、智能水錶等。

俄羅斯晶片廠幾乎已被全線制裁

前文提到,俄羅斯晶片製造商們,已經被美國制裁得差不多了。

不僅是最大晶片製造商Mikron,另一家製造商Angstrem-T甚至已經破產了一次。

還有設計廠商Baikal Electronics、MCST等等都被制裁折騰了個夠嗆,在「實體名單」里進進出出……

由這些公司構建起的俄羅斯半導體產業現如今究竟怎麼個水平,又處於何種境況,我們也藉此機會展開看看。

Baikal Electronics

首先來看晶片設計廠商——Baikal Electronics。

在最新一輪制裁名單中,其母公司T-Platforms赫然在列。

Baikal Electronics能達到的製程為28nm,它起初基於MIPS架構,這兩年轉向ARM,支持運行俄國產作業系統Astra Linux。

其最近發布的處理器為Baikal-S,擁有48個核心,基準頻率2.0GHz,最高加速2.5GHz,熱設計功耗為120W,同時還整合封裝了一顆自研的RISC-V架構協處理器。

而除了母公司被制裁,Baikal Electronics還要面臨晶片無法出貨的問題。

一直以來,Baikal Electronics的晶片都是由台積電代工。

在美國發布最新一輪制裁名單前,台積電方面已經表示,將不再為俄羅斯公司生產晶片,首當其衝的便是Baikal Electronics。

資料圖:俄羅斯總理德米特里·梅德韋傑夫於2016年8月3日在俄羅斯莫斯科附近的澤列諾格勒參觀了俄羅斯微晶片公司 Angstrem-T的工廠

同樣跟Mikron有著悠久歷史的晶片製造廠Angstrem-T,在2017年就遭到過制裁,並受到重創。

當時,Angstrem-T能拿出的最高製程為250nm。作為對比,這一年三星已經在量產7nm晶片了。

因受到制裁影響,Angstrem-T陷入債務危機,於2018年被俄羅斯國家開發銀行VEB.RF收購;2019年,正式宣告破產重組。

但就在去年,這家公司傳來一點起死回生的跡象。據報導稱,他們已高薪聘請十數位專家幫助Angstrem-T重啟產線。而且還計劃從AMD採購設備,用來生產130-90nm的晶片。

2013年,SPARC莫斯科中心設計了一款用於軍事和工業用途的筆記型電腦。

最後介紹的是晶片設計廠商MCST(莫斯科SPARC技術中心,Moscow Center for SPARC Technologies),成立於1992年,前身是列別捷夫精密機械與計算機工程研究所。

其旗下Elbrus處理器包含兩條產品線,一條面向民用,架構基於Elbrus-2000架構(俄羅斯版本X86);另一條面向軍用,架構基於SPARC,同樣由台積電代工。

目前產品能達到的最高製程工藝為16nm。

但該系列晶片在實測中表現不佳,去年年底時,俄羅斯最大銀行Sber技術部門在測試Elbrus-8C後給出的評價是:

記憶體不足、記憶體速度慢、核心數量少、頻率低、完全不滿足需求。

已有7萬IT人員出走俄羅斯

最後再回到現在,截至3月31日,美方公開的最新制裁名單中,涉及21個實體企業、13名個人。

當天白宮方面還表示,未來幾天將會把120個俄羅斯和白俄羅斯實體加入名單,範圍將擴大到航天航空、船舶和電子行業。

而從目前看來,第一波制裁造成的影響,已經遠遠超出晶片產業。

俄羅斯版谷歌Yandex就是代表之一。其旗下業務包括搜尋引擎、雲服務、網約車等等。

據報導,受到進出口限制,Yandex將會在未來1-18個月內面臨伺服器硬體短缺情況,自動駕駛業務也將遭受嚴重打擊。

為此,它們正在尋求重組以降低被制裁風險。

同時還在和俄羅斯境內社交網絡最大營運商VK進行談判,打算出售其新聞部門、Zen社交平台,或者剝離自動駕駛業務。

更為深入的影響,還體現在人才上。

據報導,從2月底到現在,已經有7萬名IT技術人員離開了俄羅斯。

俄羅斯通訊協會方面也承認了這一事實,並表示在4月時,離境的IT人員數量可能會達到10萬人。

不過俄羅斯官方方面也一直有所應對。

除了前文提到的投入重金研發光刻機外,最近路透社報導,俄羅斯正在轉向中國的微晶片製造商尋求供應,主要是為了解決其本土MIR支付系統相關的銀行卡需求。

責任編輯: 江一  來源:量子位 轉載請註明作者、出處並保持完整。

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