俄羅斯科學院旗下應用物理研究所聲稱將在2028年造出可生產7nm晶片的光刻機，大陸的半導體業界認為俄羅斯科學院「太過天真」。圖為ASML的DUV光刻機。（圖／ASML）
俄羅斯科學院發出豪語聲稱自行研發的光刻機將於2028年問世，可生產出7nm晶片。大陸半導體界人士對此表示，俄羅斯的想法似乎「太過天真」，俄羅斯想在6年內研發出可支持7nm晶片生產的光刻機可行性不高，且晶圓廠也不是光靠光刻機就可生產出晶片。
據《快科技》報導，俄羅斯入侵烏克蘭後，國際上對俄羅斯進行多項禁運措施，包括半導體產品與技術，造成俄羅斯晶片短缺。加上美國、英國和歐盟也祭出多項制裁，幾乎所有擁有先進晶片製造商都停止與俄羅斯實體合作，專注智慧財產授權的安謀（ARM）公司也無法將他們的技術授權給俄羅斯的晶片設計師。
報導說，俄羅斯大諾夫哥羅德策略發展機構（Novgorod Strategy Development）發出豪語宣稱，俄羅斯科學院旗下應用物理研究所將在2028年開發出可以生產7nm晶片的光刻機，會跌破所有人眼鏡，同時將擊敗荷蘭頂尖光刻機製造商艾斯摩爾（ASML）同類產品。
俄羅斯科學院奈米結構研究所副所長表示，全球光刻機領導者ASML近20年來一直致力於EUV曝光機，目標是讓世界頂尖半導體廠商保持極高的生產效率。
大陸半導體業界人士表示，俄羅斯的想法似乎太過天真，俄羅斯想在6年內研發出可支持7nm晶光刻機可行性不高，且晶圓廠並非光靠光刻機就可生產出晶片，還需要許多設備，而俄羅斯並不生產這些設備。
