本周，美國公司Zyvex使用電子束光刻技術製造了0.7nm的晶片。使用的是EBL電子束光刻方式，製造出了0.7nm線寬的晶片，這個精度是遠高於EUV光刻系統的，相當於2個矽原子的寬度，是當前製造精度最高的光刻系統。
