中共傳出突破技術門檻，打造出極紫外光（EUV）微影設備原型機，被視為中國版曼哈頓計劃，引發半導體業關注。不過，業界專家認為，這僅是追趕技術的第一步，是否能量產仍待觀察，對產業短期影響有限，無須過度緊張。ASML、台積電等領先者仍將持續拉開差距。僅突破EUV光源，非完整機台專家指出...
