今年7月傳出，晶圓代工龍頭中芯國際已經量產7奈米晶片並出貨給客戶，代表大陸晶片業技術有突破性發展，這也觸動美國的敏感神經，接連擴大制裁範圍，雙方交鋒越演越烈。如今，有專家爆料，中芯的工程師自訴，大陸國產的DUV機台的效率並不好，甚至接到很多投訴電話，在機台方面仍需要仰賴外國技術。
具體投訴哪些問題有待確認，良率問題？還是光刻機智慧財產權問題？芯榜將繼續跟蹤報導。
光刻機根據光源的不同，大致分為四大類，製程從低到高分別是g-line、i-line、DUV（KrF、ArF、ArFi）、EUV。
ASML不能自由出貨EUV光刻機，僅僅靠DUV光刻機維持業務。若這塊業務也不能做了，可想而知ASML往後在中國大陸的市場狀態。
也許有人說了，ASML不是還有更低端的g-line，i-line光刻機嗎？DUV不能出貨就賣更低端的設備，總能保留市場。就這種級別的光刻機，國產早就實現突破了，上海微電子作為國內唯一的整機裝備光刻機廠商，拿下g-line，i-line光刻機市場不是什麼問題。
半島電視台報導說，中芯國際量產7奈米的消息一出，美國先是禁止用來開發3奈米以下晶片的EDA軟體出口，上周又限制英偉達、超微等廠商向大陸出口高階人工智慧晶片，打擊大陸晶片業的舉動可說是一波又一波。
中芯在無法取得ASML的EUV極紫外光曝光機的狀況下，靠著DUV深紫外光曝光機推進技術，引起市場震撼，台灣工研院產業科技國際策略發展所研究總監Ray Yang表示，「中芯可以使用DUV生產7奈米，甚至進行量產，但這無法讓生產過程具有成本效益，將DUV機台的技術推向極限，如同以F1的速度駕駛一般汽車。」
Ray Yang補充說道，「在此狀況下，產品良率將會非常低，因此並不是優化先進位程的解決方桉，要將技術從7奈米繼續往前推進幾乎是不可能的。」
台媒體稱若大陸想要跨進7奈米以下的先進位程，會需要ASML獨家生產的EUV機台，然而在美國制裁下，大陸廠商無法拿到此設備，因此希望透過國產機台的方式取得突破，但過程並不容易。
半導體產業分析機構SemiAnalysis分析師Dylan Patel表示，「中芯的工程師自爆國產機器出現很多問題，甚至接到許多投訴，大陸還有辦法生產好的ArF曝光機（其中一款DUV機台）大陸用外國機器生產晶片落後多年，而國產設備上則落後數十年。」
事實上，7月也傳出美國有意施壓ASML禁止出售DUV設備至大陸，但目前並沒有實質上的動作，ASML曾警告，如果美國迫使公司停止向大陸出售DUV設備，全球半導體供應鏈將面臨中斷，因為大陸是重要的參與者。
