2026年7月29日，SK海力士位於韓國利川的工廠大樓上可以看到該公司的標誌。
韓聯社今天(8月9日)報導，韓國一名SK海力士公司的前員工，因向中國企業泄漏有關半導體製造技術的資訊，被判處18個月有期徒刑。韓聯社表示，首爾高等法院對這起上訴案維持原判。法官認定，被告於2022年向一家中國公司泄漏了SK海力士的商業機密文件，違反了公司的安全規定。
被告曾在SK海力士駐中國辦事處工作，法官認定，他從海力士內部伺服器下載資料，將資料拍攝或列印下來，放在求職履歷中，交給中國某家公司；那是海力士用於智慧手機相機、筆記型電腦的CMOS影像感測器的相關機密資料。法院並未公開中國公司名稱。報導指出，被告已承認所有指控，SK海力士也追回他所帶走的絕大部分資訊。
首爾高等法院未立即回復路透社的置評要求。
