使用前僱主、晶片巨頭ADI的設計製造仿冒版本最高面臨10年監禁
資料照，圖為約翰‧約瑟夫‧莫克利聯邦法院（John Joseph Moakley United States Courthouse）。
麻薩諸塞州勒星頓鎮華人余浩洋（Haoyang Yu，音譯）因「占有從前公司盜竊的商業機密」，上周四被聯邦陪審團定罪。波士頓聯邦檢察官辦公室在周六（28日）的一份聲明中稱其為「麻薩諸塞州地區此類刑事審判中，首宗定罪案件」。
43歲的余浩洋在經過長達一個月的陪審團審判後被判有罪，罪名是擁有名為HMC1022A的微晶片原型設計，該晶片由總部位於威爾明頓的半導體製造商、晶片巨頭「Analog Devices, Inc.」（ADI）開發和擁有。這種晶片用於航空航天和國防應用。余浩洋曾為自己的公司製造「仿冒」版本。
余浩洋出生於中國哈爾濱，於2002年到美國留學，從2014年到2017年在ADI工作，開發設計可用於通信、國防和航空航天行業的微晶片。
由於工作需要，他可以訪問ADI公司與當前和未來的微晶片設計相關的數據和信息，包括其原理圖文件、設計布局文件和製造文件。
起訴書指控，余浩洋在擔任ADI員工期間，創辦了自己的微晶片設計公司「Tricon MMIC, LLC」，並使用盜來的HMC1022A設計製造了ADI晶片的仿冒版本，為自己公司的「國防和航空航天、測試和儀器，及衛星通信」客戶提供服務。
余浩洋在ADI發布其晶片之前就開始銷售他的仿冒HMC1022A版本微晶片。ADI全力配合政府的調查。
但是陪審團裁決余浩洋除1項罪名成立外，其餘17項罪名不成立：包括電信欺詐、移民欺詐（在提交入籍申請時未披露有關盜竊ADI商業秘密的信息）、非法出口受控技術，和其它11項持有竊取的商業機密罪。
余浩洋的兩名代理律師William Fick和Daniel Marx聲稱，余浩洋是因為其種族才成為聯邦檢察官的目標，是「基於中國血統的非法定性和定位」，因此要上訴。他們說，這項動議正在等待裁決。
持有被盜商業機密的指控最高可判處10年監禁、3年監外看管和25萬美元罰款，當地法官楊威廉（William G. Young）定於今年9月15日對余浩洋量刑。
