中芯被指抄襲台積電產品
中國最大半導體公司中芯國際突破美國制裁，掌握7奈米先進位程技術？根據行業觀察機構(TechInsights)發現，中芯正在交付使用7奈米技術製造的比特幣挖礦晶片，該機構拆解晶片後發現，初期影像顯示幾乎抄襲台積電7奈米製程。此前，台積電已兩度提告中芯抄襲。
行業觀察機構(TechInsights)指出，受到制裁的影響，中芯儘管無法獲得最先進的設備技術，但是，他們從礦機公司MinerVa旗下產品的SoC當中，發現中芯的7奈米製程技術，並且這款產品從2021年7月起就開始出貨。「最初的圖像表明，它是台積電7奈米製程技術的近似複製。這是在台積電過去兩次起訴，中芯國際抄襲其技術後具說服力的發現。」行業觀察機構發現。
「半導體史沒看過這麼厲害的！」科技新報專欄作家、東吳大學企管系講師林修民接受本台訪問下了這樣的註解。
林修民解釋，中芯從14奈米製程，跳過12、10奈米，直接進入7奈米製程。這就像老師改考卷，學生沒有推演過程，就直接寫答案，答案還跟隔壁有寫推演過程同學一模一樣，當然會讓人懷疑是「抄襲」。
中芯國際突破制裁，被發現已交付使用7奈米晶片。截圖自TechInsights)
「你本來是14奈米，直接跳到7奈米，中間到底發生什麼事沒人知道，就橫空出世一個7奈米，造出來的產品這麼像。」林修民說。
台積電曾在2002年和2006年兩度提告中芯抄襲技術，雙方在2009年達成和解。如今再次爆出抄襲風波。在馬英九執政時期，曾連署反對開放中國紫光集團來台的成大電機系教授李忠憲對本台表示，「沒有用，因為這個國家(中國)行事風格、法律制度，法治不是很理想情況。0334官司在中國打得贏嗎？這是很大的疑問。出貨到中國以外地方緩不濟急。」
中芯突破EUV制裁限制不計成本生產出7奈米晶片
據《Tom’s Hardware》報導，中芯受到美國政府的嚴厲制裁，限制了其獲得先進的極紫外光曝光微影系統(EUV)晶片製造工具。然而，中芯顯然可以使用其現有的工具來生產7奈米的晶片（也可能更小），儘管經濟效益和產量不那麼理想。報導稱，「這些成本因素對中國來說幾乎不是一個問題，因為它通過開發自己的本土生產的晶片供應，尋求從西方國家的技術獨立。」
林修民指出，晶圓代工廠使用EUV原因在於，很深的進階製程可以省成本，不用曝光那麼多次。如果中芯不用EUV做7奈米或以下的製程，成本十分昂貴，甚至高到不划算，同時也會影響良率。
他認為最大的目的在於，「對中芯而言，他要做第一代不會有問題，因為他是肩負國家使命、肩負中國共產黨不要被美國卡脖子，或是配合黨中央政策，可以不計成本弄出一個7奈米產品。在商言商，成本高到沒有可行性。」
中芯國際官網先進位程介紹仍停留在14奈米。(截圖自中芯國際官網)
林修民注意到，中芯對於製程「倍增」的躍進顯得格外地低調，不僅是官網也沒有任何官方文件提到7奈米，連外資多次追問，中芯也都三緘其口。這次Techinsights在公開市場上購買的Minerva比特幣挖礦晶片，中芯的7奈米才得以曝光，目前市場上幾乎不見任何IC設計大廠下單。林修民預測，「沒有經過市場大量出貨的驗證，距離真正的商業可靠度還有段距離。」
禁EUV後美國盼說服荷蘭禁止DUV出口中國
對於中芯這一驚人進步，彭博提出這對美國出口管制機制的有效性產生懷疑，也對華盛頓是否真能挫敗中國打造國產世界級晶片產業，並減少對外國技術依賴的雄心產生疑問。
此前，美國已考慮進一步收緊管制規則。彭博日前引述知情人士說法，美國政府欲說服荷蘭政府，禁止出售成熟製程用深紫外光曝光微影系統(DUV)到中國。DUV系統雖然技術層次無法與EUV)相比，仍是生產汽車、手機、電腦甚至機器人晶片最常用的設備。
此外，美國參議院20日的初步投票中，以64票對34票通過了520億美元晶片法案，法案中有一項規定，明確要求獲得美國「晶片法案」補貼的半導體企業，「在未來十年內禁止在中國新建或擴建先進位程的半導體工廠。」
對於美國行政和立法部門積極推動，遏制中國半導體崛起。李忠憲提出他的觀察指出，「中國發現全世界的破口，從台灣這裡挖人最快，美國比較沒那麼容易讓他得逞。」對於這個存在已久的問題，他呼籲台灣政府與國安單位要有完整的配套措施。「蔡英文已經執政6年多，理論上，她應該對這些事有些強勢作為，這跟國家安全有關。」李忠憲說。
