應用材料公司（Applied Materials）公布了一項突破性的圖案化（patterning）技術，稱為Centura Sculpta系統，核心是「pattern shaping」的新工藝步驟，可協助晶片製造商以更少的EUV光刻步驟生產高性能的電晶體和內連布線（interconnect wiring），從而降低先進晶片製程的成本、複雜性和環境影響性。
大陸的半導體代工企業大概什麼時候能超過台積電？這個問題是說十年內，二十年內還是一百年內？ 我目前就在ASML公司工作，做的就是最新一代的EUV光刻機。這麼說吧，咱們先別說把（EUV）光刻機給造出來，就是把（EUV）光刻機給用好都是一件無比複雜的事情。
