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涉向中國泄露核心技術 韓三星4員工被起訴

韓國三星電子子公司的核心技術「超臨界清洗設備」被泄露至中國,目前韓國地方法院已起訴4名涉嫌參與泄露技術的三星員工。

位於首爾瑞草區的三星電子大樓。

據悉,韓國三星電子子公司的核心技術「超臨界清洗設備」被泄露至中國,目前韓國地方法院已起訴4名涉嫌參與泄露技術的三星員工。

5月16日,韓國水原地方檢察廳防衛工作暨產業技術犯罪刑事部以違反《不正當競爭和商業秘密保護法》相關法律的嫌疑,逮捕並起訴了三星電子的子公司SEMES的兩名前研究員和另外兩名合作公司的員工。

此次被泄露的「超臨界清洗設備」是利用處於液態和氣態之間的超臨界二氧化碳清洗半導體基板的設備,該技術可以最大限度地減少對器材的損耗,降低超微半導體的次品率。據報,該設備被認為是三星尖端半導體晶片技術的關鍵。

SEMES於2018年在全球首次開發該技術,目前僅供貨給三星半導體,包括SK海力士在內的韓國競爭公司也對此極為關注。據悉,三星電子和SEMES還簽訂了禁止開發人員轉職的協議。

SEMES是三星電子旗下的一家半導體設備供應商(三星擁有90%以上的SEMES的股份),同時它也是韓國最大的半導體設備製造商。

檢方調查顯示,SEMES的兩名退職研究人員2018年與中國某研究機構取得了聯繫,聲稱可以複製上述設備,並在此後製造出該設備並移交給了中方,獲利八百多億韓元(約6280萬美元)。期間,SEMES的合作公司也有參與。

據KBS報導,他們利用合作公司技術安保意識相對較弱的特點,以高出原價3倍的價格購買零件,在短時間內將製造出相同設備。

三星電子方面就技術泄露一事表示,案件仍在調查中。

韓國檢方認為,該案件的整體技術泄露是有人故意操縱,目前正在調查其背後勢力。但負責人表示,目前無法透露更多細節。

責任編輯: 時方  來源:大紀元 轉載請註明作者、出處並保持完整。

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