中美貿易戰爆發以來，晶片生產技術一直為各界焦點，中國科學院研製的「超分辨曝光裝備」日前通過驗收，曝光分辨力達到22奈米，不少陸媒以「國產光刻機偉大突破，國產晶片白菜化在即」和「厲害了我的國，新式光刻機將打破『晶片荒』」之類為題，慶祝中國大陸不再受制於人。
然而「科技日報」卻刊文批評，有些傳播者為吸引眼球、賺錢，最愛製造「自嗨文」和「嚇尿體」，聽到國產科技成就先往大里吹，驢吹成馬，馬吹成駱駝，好賣個駱駝價。
報導指出，就晶片製作而言，光刻機（曝光機）作用在於「印刷」電路，就像照相，圖像投在感光底片上，蝕掉一部份，自曝光技術面世半個多世紀以來，為了節省能源和所需矽料，晶片愈做愈小，致使投影刻劃難度愈來愈高，因而催生頂尖曝光機利用波長13.5奈米的極紫外光源，以刻劃10奈米以下的線條。
報導認為，要製造穩定而大功率的「極紫外光」（EUV），每個光源需耗資人民幣3000萬元，至於頂尖「極紫外光」（EUV），更有一部賣一億美金之譽，相關技術目前由荷蘭ASML公司獨家壟斷。
有見及此，中科院研製曝光機，利用「表面等離子體」曝光法，在通行奈米光學技術外另闢蹊徑，「用便宜光源實現較高的解析度」。
報導引述科學家楊勇解說原理：「拿一塊金屬片和非金屬片親密接觸，界面上有一些亂蹦的電子；光投影在金屬上，這些電子就有序地震盪，產生波長几十奈米的電磁波，可用來曝光。」
不過這種這種電磁波很弱，需要「曝光膠」材料得湊近了，才能刻出來，且加工精度及不上市面「極紫外曝光機」，無法刻出幾十奈米級的晶片。
報導最後結論，中科院的22奈米解析度曝光機，跟ASML壟斷的曝光機不是一回事，說前者彎道超車，就好像說大陸出了個競走名將，要超越牙買加短跑運動員博爾特。
國產曝光機被譽打破「晶片荒」，卻遭打臉是「驢吹成馬」。
