製造先進晶片需採用EUV曝光機。（示意圖：shutterstock／達志）
荷商艾司摩爾（ASML）是半導體設備巨頭，台積電等龍頭公司製造先進晶片，都需採用ASML製造商生產的昂貴極紫外光曝光機（EUV），根據《Tom's Hardware》報導，日本科學家已開發出簡化的EUV掃描器，可以大幅降低晶片的生產成本。
報導指出，沖繩科學技術學院（OIST）Tsumoru Shintake教授提出一種全新、大幅簡化的EUV曝光機，相比ASML開發和製造的工具更便宜，如果該種設備大規模量產，可能重塑晶片製造設備產業的現況。
值得關注的是，新系統在光學投影設定中只使用兩面鏡子，與傳統的六鏡配置有很大不同，這種光學系統的挑戰在於，它得將這些反射鏡沿直線對齊，以確保系統保持較高的光學性能。
報導稱，這種新的光路允許超過10%的初始EUV能量到達晶圓，而標準設定中的能量約為1%，這個改進是重大突破。而這種EUV微影工具的優點，在於提高可靠性並降低了維護複雜性，以及功耗大幅降低。
